Sodium/tea-Lauroyl Collagen Amino Acids
Un ingrediente cosmetico usato come antistatic, hair conditioning, surfactant - cleansing in prodotti per la cura della pelle, dei capelli e per l'igiene personale venduti nell'Unione Europea.
Che cos'è?
Amino acids, collagen, dodecanoyl derivatives, sodium salts, 2,2',2''-nitrilotrisethanol salts
A cosa serve?
Sodium/tea-Lauroyl Collagen Amino Acids è elencato nell'inventario UE degli ingredienti cosmetici con le seguenti funzioni dichiarate:
-
Antistatic
reduces static electricity, mostly in hair products to keep strands smooth and manageable
-
Hair conditioning
improves the appearance, feel, and manageability of hair
-
Surfactant - cleansing
surfactant whose primary cosmetic role is cleansing — the active workhorse in soaps, shampoos, and body washes
Stato regolatorio UE
Questo ingrediente è limitato nell'Unione Europea.
Sodium/tea-Lauroyl Collagen Amino Acids è elencato nell'Allegato III del Regolamento Cosmetici UE 1223/2009 (voce 62). È consentito solo a condizioni specifiche, limiti di concentrazione o in determinati tipi di prodotto.
Domande frequenti
Che cos'è Sodium/tea-Lauroyl Collagen Amino Acids?
Sodium/tea-Lauroyl Collagen Amino Acids è un ingrediente cosmetico catalogato nella banca dati CosIng dell'UE. Amino acids, collagen, dodecanoyl derivatives, sodium salts, 2,2',2''-nitrilotrisethanol salts
Sodium/tea-Lauroyl Collagen Amino Acids è consentito nei cosmetici nell'UE?
Solo con limitazioni. Sodium/tea-Lauroyl Collagen Amino Acids è consentito nei cosmetici UE solo alle condizioni definite nell'Allegato III del Regolamento 1223/2009.
Cosa fa Sodium/tea-Lauroyl Collagen Amino Acids nei prodotti cosmetici?
Sodium/tea-Lauroyl Collagen Amino Acids è dichiarato nell'inventario UE degli ingredienti cosmetici con queste funzioni: antistatic, hair conditioning, surfactant - cleansing.
Ingredienti correlati
Fonte: banca dati CosIng UE (Commissione europea). Questa pagina deriva da informazioni del settore pubblico pubblicate dalla Commissione europea. · Ultimo aggiornamento: 15/10/2010